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Comment on 'Nitric oxide adsorption on the Si(100)(2x1) surface - a vibrational study by Y. Taguchi, M. Fujisawa, Y. Kuwahara, M. Onchi and M. Nishijima'

机译:评论“一氧化氮在Si(100)(2x1)表面上的吸附-田口Y.藤泽M,桑原Y.桑河Y.Onchi和西岛M.振动的振动研究''

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摘要

Both molecular and dissociative adsorption behaviour of NO on the Si(001)(2 × 1) surface at room temperature have been reported. This contradicting difference in adsorption behaviour was obtained from the application of different experimental methods. The attention must be focused on the various sample preparation techniques used and on the influence of primary excitation sources of the different experimental techniques applied on this adsorbed system.
机译:室温下,Si(001)(2×1)表面上NO的分子和解离吸附行为均已有报道。这种矛盾的吸附行为差异是通过应用不同的实验方法获得的。必须将注意力集中在所使用的各种样品制备技术上,以及在该吸附系统上应用的不同实验技术的主要激发源的影响。

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